Istraživači sa Sveučilišta Kalifornija u Davisu u SAD-u dizajnirali su novu masku za lice na bazi tkanine koja može uništiti do 99,99 posto bakterija, virusa i drugih patogena u roku od sat vremena od izlaganja dnevnom svjetlu.
Istraživači su istaknuli da se ova maska može prati 10 puta i može biti kontinuirano izlagana sunčevoj svjetlosti najmanje tjedan dana. To neće pogoršati njenu antimikrobnu aktivnost. Studija je objavljena u časopisu ACS Applied Materials and Interfaces.
Metodologija
Istraživači su namjeravali dizajnirati novu pamučnu tkaninu koja će oslobađati reaktivne vrste kisika (ROS) kada je izložena dnevnom svjetlu, ubijajući mikrobe na površinama tkanine, a istovremeno je periva, ponovno upotrebljiva i sigurna za korisnika. Istraživači su antimikrobne tkanine pričvrstili pozitivno nabijenim lancima 2-dietil aminoetil klorida (DEAE-Cl) na obični pamuk.
Uz to, istraživači su naveli da ljudi mogu dezinficirati svoju platnenu masku tijekom ručka vani na suncu ili provodeći dulje vrijeme pod uredskim svjetlima koja su mnogo manje intenzivna od sunčeve svjetlosti.
Rezultati
Istraživački tim ustanovio je da je fotosenzibilizator ubio 99,9999 posto bakterija u tkanini u roku od sat vremena od izlaganja dnevnom svjetlu te je inaktivirao 99,9999 posto T7 bakteriofaga - virusa za koji se smatra da je otporniji na ROS od nekih koronavirusa - u roku od pola sata.
"Tkanina pruža obećavajuće rezultate u izradi višekratnih, antibakterijskih ili antivirusnih platnenih maski za lice i zaštitnih odijela", rekli su istraživači, a prenosi Business line.
